• JIB-4601F
  • Технические характеристики
  • Фотогалерея

JEOL JIB-4601F

JIB-4601F – это двулучевая система, представляющая собой растровый электронный микроскоп высокого разрешения с термополевым катодом, оснащенный мощной ионной пушкой. Прибор может одновременно быть использован и в режиме РЭМ, и в режиме ионного микроскопа или системы ионного травления.

Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна обеспечивает высокое разрешение (1,2 нм при 30 кВ в режиме регистрации вторичных электронов) и позволяет анализировать морфологию наноразмерных объектов. Термополевой катод обеспечивает высокие и стабильные токи пучка, что позволяет проведение экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.). Режим торможения пучка над поверхностью образца делает JIB-4601F прекрасным инструментом для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами.

Ионная колонна JIB-4601F сконструирована компанией JEOL специально для систем такого класса. Она отличается высокой надежностью, обеспечивает высокое разрешение изображений при работе в режиме наблюдения и высокие токи пучка при работе в режиме травления.

Помимо всех типов исследований, традиционно проводимых с помощью РЭМ, JIB-4601F позволяет проводить чистку и модификацию поверхности, а также утонение образцов, предназначенных для дальнейших исследований методами растровой и просвечивающей электронной микроскопии, проверять качество их приготовления. После проверки и/или обработки образцов в JIB-4601F, их можно переносить в ПЭМ или РЭМ напрямую, не демонтируя с держателей, а значит, не подвергая риску повреждений.

JIB-4601F комплектуется шлюзовой камерой, которая существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, существенно продлевает срок службы эмиттеров и диафрагм обеих колонн.

Двухлучевую систему JIB-4601F можно дооснастить множеством разнообразных приставок. Они позволяют проводить напыление углеродом, вольфрамом и платиной, проводить ионное травление по заданному шаблону (ионную литографию), работать с держателями электронных микроскопов и микроанализаторов, даже старых моделей. Подключение таких опций, как энергодисперсионный спектрометр и детектор дифракции отраженных электронов, позволяет проводить послойный анализ элементного и фазового состава образцов.

Использование наноманипуляторов Omniprobe дает возможность проводить следующие операции в вакуумированной камере образцов прибора:
• Перемещать образцы с точностью до нескольких нанометров;
• Выкладывать из наночастиц и нановолокон узоры заданной формы;
• Измерять электрические параметры различных нанообъектов;
• Рассматривать с различных ракурсов тонкие кристаллы, приготовленные для дальнейших исследований в ПЭМ;
• Снимать заряд с непроводящих образцов;
• Производить микроразрезы в биологических образцах;
• Отделять малые образцы от массива для проведения более точного микроанализа их элементного и фазового состава.

Основные преимущества:

• Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна обеспечивает высокое разрешение (1,2 нм при 30 кВ в режиме регистрации вторичных электронов);
• Термополевой катод, известный также как катод Шоттки, обеспечивает высокие (свыше 200 нА) и стабильные токи пучка, что позволяет использовать JIB-4601F и в качестве аналитического РЭМ;
• Специальная конструкция первой конденсорной линзы позволяет намного более эффективно собирать эмитированные катодом электроны и обеспечивает длительный срок службы электронной пушки;
• Стабильная, надежная, высокопроизводительная ионная колонна специальной конструкции, позволяющая в режиме травления быстро стравливать большие объемы материала, а в режиме наблюдения обеспечивающая высокое разрешение получаемых изображений (5 нм с использованием детектора вторичных электронов);
• Наличие шлюзовой камеры, которая существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, электронной и ионной колонн, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, существенно продлевает срок службы катодов и диафрагм;
• Возможность напыления образцов углеродом, вольфрамом и платиной;
• Возможность работы с образцами, уже установленными на держатели растровых и просвечивающих электронных микроскопов без риска их повреждения при монтаже-демонтаже;
• Наличие программного обеспечения для проведения ионной литографии.